而化学机械抛光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成电路芯片的一个关键制程，国内抛光所用关键材料CMP抛光垫，几乎全部依赖进口。CMP典型的抛光浆料都是纳米级发烟硅石(5Vol%，170-230nm)、高纯硅胶(9Vol%，6-80nm)、氧化铈(6Vol%，200-240nm)或氧化铝颗粒，它们的粒...

  在环保领域，它可用于监测污水处理厂、河流、湖泊等水体中的离子浓度，为水环境治理提供数据支持。在化工领域，它可用于监测生产过程中产生的废水中的离子浓度，确保废水排放符合环保要求。在电力领域，它可用于监测锅炉水质中的离子浓度，保障锅炉的安全运行。在食品领域，它可用于监测食品生产过程中的水质，确保食品安全。在水处理过程中，在线离子浓度分析仪可用...

  CMP浆料粒度分析的难点在于必须在抛光过程中全浓度条件下快速测定平均颗粒直径和粒度分布，因为稀释可能导致浆料稳定性和粒度的变化(比如进一步的团聚或解聚)，另外在稀释后的浆料中很难检测本来就较少量的团聚体。CPS-24000型纳米粒度分析仪是较新型的纳米粒度分析仪，它采用斯托克斯定律分析方法，V=D²(ρP-ρF)G/18η，即颗粒沉降的速...

  多参数测量：在线离子浓度分析仪不只可以测量单一离子的浓度值，还可以同时测量多种离子的浓度值。这使得它在多参数水质监测中具有很大的优势，可以更加地了解水质的状况。智能化和自动化：随着科技的不断发展，在线离子浓度分析仪的智能化和自动化程度不断提高。它可以实现自动采样、自动分析、自动记录等功能，减少了人工操作的繁琐和错误率。随着科技的不断进步和...

  同时，还需要考虑设备的使用寿命、维护成本等因素，以确保所选设备能够带来长期的经济效益。在选择在线分析仪时，除了考虑设备本身的关键指标外，还需要考虑供应商的选择。以下是一些选择供应商时需要考虑的因素：选择有良好资质和信誉的供应商能够确保设备的品质和售后服务。用户可以通过查看供应商的资质证书、客户评价等方式来评估供应商的信誉和实力。在线分析仪...

  这些技术基于不同的物理或化学原理进行元素分析，具有较高的准确性和可靠性。这些技术通常具有友好的用户界面和简单易懂的操作流程，方便用户进行使用和维护。未来的同时在线分析多种元素的技术将更加智能化，具备自动采样、自动分析、自动记录等功能，减少人工操作的繁琐和误差。便携化：随着微型化技术的不断发展，未来的同时在线分析多种元素的技术将越来越小型化...

  仪器维护与保养：定期对在线分析仪进行维护和保养，如更换耗材、清洗传感器等，以确保其正常运行和测量结果的准确性。质量控制和数据管理是在线分析监测过程中确保样品性和一致性的重要保障。以下是一些关键的策略：制定质量控制计划：根据监测需求和仪器特点，制定详细的质量控制计划，明确质量控制点、控制方法和控制标准。质量控制措施：采取多种质量控制措施，如...

  低维护配置允许安装分析仪在常压下将样品返回的合适位置，进一步减少维护需求。C-Quand在线EDXRF分析仪的优势：1.带有十五个测量通道，可以同时分析15种元素的含量。2.没有运动部件，不需要更换动力窗模块。3.运行维护成本低，无后期耗材成本。4.维护操作简单，带有全自动样品池清洗模块，每次维护时间多数十分钟，宕机时间短。5.内置标准样...

  它们在许多领域都有广阔的应用，以下是一些常见的应用领域：实验室分析仪在医学领域中发挥着重要作用，用于检测和诊断疾病。例如，血液分析仪可以检测血液中的各种成分，帮助医生判断患者的健康状况。在制药工业中，实验室分析仪用于研究药物的化学性质、药效和安全性。它们可以检测药物中的有效成分、杂质和降解产物，确保药物的质量和安全性。环境监测：实验室分析...

  使用CPS分析仪平行测定3次高纯氧化铝粉得到的叠加图，表明仪器的重复性较好，样品的粒径为0.586微米。分析氧化铝粉末时，为防止样品发生凝聚，需要添加入少量的乙酸。氧化锌ZnO粉末：氧化锌俗称锌白，是锌的一种氧化物。氧化锌是一种常用的化学添加剂，大量地应用于塑料、硅酸盐制品、合成橡胶、润滑油、油漆涂料、药膏、粘合剂、食品、电池、阻燃剂等产...

  对于粒径分布范围很宽的样品，通过可选的速度调节功能圆盘，只需常规圆盘分析时间的1/20。经过CPS纳米粒度仪对裂解后炭黑进行粒径测试后的结果所示：与扫描电镜所显示的结果基本一致，裂解后的炭黑较小粒径为3um，较大可至50多微米，并且出现很多峰值，证明样液中具有不同粒径且含量不同的的炭黑。峰值粒径处于30um左右。真实反映了不同炭黑粒径的分...

  CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分，其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm，其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸，因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗...