本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱,首先简单介绍一下HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性...
电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的可选择配件(需另外收费,订购时请注意)。1.可编程液晶控制器,可实现升温速率可调和保温时间可调。2.单独限温控制器,可实现在主控制器失灵后设备升温过高的情况下立即切断加热。3.无纸记录仪,通过USB接口将其记录的数据导入计算机可供分析、打印等,是有纸记录仪的更新换代产品,相当多八通道温度记录。4.配RS-485接口,可连接计算机和记录仪,实现时时***工作状态。5.温度测试孔,可实现不同测试线或仪器插入设备工作室内进行各种实验,测试孔孔径有φ25、φ50、φ80可选。6.载物托架,烘箱设备标配是2个载物托架,客户可根据自身需求增配托架数量。存储柜定制生产,价格从优。扬州复合存储柜
近日,一种新型的实验室用存储柜引起关注。这种存储柜不仅具有高效的存储功能,还具有智能化的管理系统,能够提高实验室的工作效率和安全性。据了解,这种实验室用存储柜采用了先进的物联网技术,可以实现对存储柜内物品的实时监控和管理。通过智能化的管理系统,实验室工作人员可以随时了解存储柜内物品的存放情况,包括物品的种类、数量、存放位置等信息,从而更加方便地进行实验室管理和物品调配。此外,这种实验室用存储柜还具有高效的存储功能。它采用了多层抽屉式设计,可以根据实验室的需要进行自由组合,从而满足不同物品的存储需求。同时,存储柜内还配备了防火、防潮、防震等多种安全保护措施,可以有效保护实验室内的物品安全。扬州复合存储柜欢迎致电合肥真萍科技咨询存储柜相关知识。
下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗(清洗气体:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高制品质量的目的。二、设计特点1.后门设计热风电机2.降温时风机开启,同时两端降温封头开启,炉膛内产生如图所示的气体流向3.通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换,达到快速降温的目的
存储柜包含底板,上述底板的底部接近四个拐角处均设有支撑腿,上述底板的顶部接近周围边缘处设有柜子机壳,上述底板的顶部接近中心处一侧安装有动力模块,上述动力模块的后表面接近一侧拐角处衔接有一号同轴线,上述底板的顶部接近中心处另一边设有信息搜集处理模块,上述信息搜集处理模块后表面靠一侧拐角处衔接有二号同轴线,上述柜子机壳的外表壁后表面接近底部边缘中心处开设有一号埋孔,上述柜子机壳的后表面接近底部边缘中心处设有数据中枢,上述一号同轴线和上述二号同轴线的一侧均根据一号埋孔与上述数据中枢相连接。存储柜的功能具体介绍。
存储柜是现代生活中不可或缺的一种家具,它可以帮助我们整理家中的物品,让生活更加有序。随着人们对生活品质的要求越来越高,存储柜的种类也越来越多,功能也越来越强大。下面,让我们一起来了解一下存储柜的魅力。首先,存储柜的种类非常丰富。从材质上来看,有木质、金属、塑料等多种选择;从功能上来看,有衣柜、鞋柜、书柜、餐具柜等多种类型。无论是在家庭还是办公场所,都可以根据自己的需求选择适合的存储柜。其次,存储柜的设计也越来越人性化。现在的存储柜不再是简单的储物工具,它们的设计更加注重人体工程学,让我们在使用时更加方便。例如,一些衣柜的设计采用了抽屉式的结构,让我们可以更加方便地取出衣物;一些鞋柜的设计则采用了可调节的层板,让我们可以根据鞋子的大小来调整层板的高度。存储柜的发展前景如何?扬州复合存储柜
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隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。下面为大家介绍一下真萍科技隧道炉的产品特点。1.双边配有链条传动,解决传送过程中跑偏的现象;2.烘箱分段式加热,单独电箱控制,方便操作。结构主要由输送机系统与烘干炉两大部分组成,多段单独;3.PID温度控制,炉内温度均匀;4.输送速度变频调速,调节自如,运行平稳,产能高;5.每段单独箱体设置废气排放接口,可外接到车间外面,避免车间废气污染。扬州复合存储柜
本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱,首先简单介绍一下HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性...
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