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    LCD部件固定用胶带#550R6BW/#550P8BW是固定背光源模组和LCD模组而开发的双面胶带采用特殊黑白基材有遮光和反射功能。特点通过特殊多层印刷处理，大幅度提高遮光性。通过反射功能的增强，提高背光源的亮度上升。粘合剂的冲型加工性优越，对各种贴合物有高粘合性。关于防止其使用部位线路短路的产品也俱全。用途特性一般物性项目単位3805BWH3805BH测试方法白面粘合力（对PC板）N/（对玻璃板）（对PC板）40℃℃，非保证值。其他在可视光领域的白面反射率遮光性测试名称漏光判定光线透过率（％）卤750550nm3805BWH无漏光:○:○，非保证值3800系列LCD部件固定用双面胶带产品一览表用途系列名厚度（μm）背光源模组用途反射／遮光应力缓和3800BWC3805BWC3806BWC耐反制力.。 sekisui积水胶带，5250型号齐全！5782积水胶带联系人

    UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺SELFA-MP电镀工程中的背面保护用的胶带，UV照射后产生GAS，可以从接着体上剥离开来。特征UV照射后粘着剂自行产出氮气使粘力下降，可在晶圆不受外力的情况下实现自行剥离。用途晶圆化学镀UBM时的背面保护膜、防止晶圆在剥离中受损用途例镀UBM的工艺适用前处理(alkali碱溶液，PH9）后处理（强酸，强碱）镀金属处理（Ni，Au等）特性一般物性项目单位胶带厚度基材25μm粘着剂30μm项目单位SUSSiWafer金粘着力初期N/：180度剥离UV照射：1000MJ晶圆/芯片制造工艺相关产品一览产品分类产品名特征UV剥离胶带耐热，高附着力，易剥离的UV胶带，用于半导体工艺【SELFAHS】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。在各种PKG制造过程中可保护器件表面并抑制翘曲。UV剥离胶带高耐热，高粘附力，易剥离的双面UV胶带，用于临时键合工艺【SELFAHW】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。用于玻璃乘载工艺時，保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。UV剥离胶带UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺【SELFA-MP】具有高耐化学性和低残留性的UV剥離胶帶；透过UV照射产生气体，剥離時可减少對设备的损伤。 5782积水胶带联系人sekisui积水双面胶带，型号齐全！

对表面凹凸材料具有高追随性，高缓冲性。产品情报散热相关产品超导导热垫片【MANION系列】利用磁场排向技术生产的高热传导率碳纤维，同时实现柔软性和密着性的一种散热垫片。产品情报散热相关产品超导导热垫片【TIMLIGHT高导热系列】将碳纤维重新配向至Z方向，具高导热性的碳纤维片。产品情报成型品可吸收振动和冲击的热固性橡胶【G-Polstar】硬度大，阻尼变化大，阻燃UL94。产品情报成型品导电，支架集成式连接器【麦克风支架连接器】支架和连接器集成在一起。易于组装，免焊接。产品情报成型品橡胶连接器，用于电连接和接地（粘接固定）【粘性（PSA）接点连接器】橡胶连接器，带有集成的绝缘和导电部件。由于具有粘性，安装简便（PSA：压敏胶）。产品情报成型品橡胶连接器，用于电气连接和接地（焊接安装）【SMT用点连接器】带有集成绝缘和导电部件的橡胶连接器，通过回流焊安装。由于具有粘性，所以易于安装（SMT：表面安装技术）。

产品情报微粒子塑料芯金属涂层颗粒【MicropearlAU】在拥有均一分布粒径的微粒子的基础上，镀一层金属层，可以控制粒子的硬度和反弹力。产品情报微粒子高精密度均一微粒子【MicropearlEX】相较于SP系列的微粒子，EX系列的粒径分布更加均一，可以更加的控制厚度，具有的耐电压性，耐热性以及耐腐蚀性。产品情报微粒子硬塑料材质均一树脂微粒子【MicropearlEXH】高硬度的塑料颗粒在压力下具有良好的尺寸稳定性，与无机颗粒相比，对基材的损害较小，并能防止在树脂中沉淀。产品情报微粒子低复原率柔软均一树脂粒子【MicropearlEZ】由于该产品相对柔软，可以吸收周围的噪音震动，减少对基板的损害。sekisui积水胶带，3806BWH型号齐全！

特征UV照射后粘着剂自行产出氮气使粘力下降，可在晶圆不受外力的情况下实现自行剥离。用途晶圆化学镀UBM时的背面保护膜、防止晶圆在剥离中受损用途例镀UBM的工艺适用前处理(alkali碱溶液，PH9）后处理（强酸，强碱）镀金属处理（Ni。Au等）特性一般物性项目单位胶带厚度基材25μm粘着剂30μm项目单位SUSSiWafer金粘着力初期N/：180度剥离UV照射：1000MJ晶圆/芯片制造工艺相关产品一览产品分类产品名特征UV剥离胶带耐热，高附着力，易剥离的UV胶带，用于半导体工艺【SELFAHS】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。在各种PKG制造过程中可保护器件表面并抑制翘曲。UV剥离胶带高耐热，高粘附力，易剥离的双面UV胶带，用于临时键合工艺【SELFAHW】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。用于玻璃乘载工艺時，保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。UV剥离胶带UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺【SELFA-MP】具有高耐化学性和低残留性的UV剥離胶帶；透过UV照射产生气体，剥離時可减少對设备的损伤。sekisui积水23#胶带，型号齐全！5782积水胶带联系人

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积水化学电子领域综合网站TOPICS积水化学首页LanguageEnglish中文日本語한국어产品咨询按设备种类搜索按应用场景搜索按产品类别搜索按功能搜索产品一览PCB制造程中的光罩保护胶带Tackwell首页胶带PCB制造程中的光罩保护胶带Tackwell高耐久类型（离型）Tackwell157SD,SD-S防止由于溶剂引起的离型层脱落，即使是高粘连性的液状湿膜，可容易从底片剥离。有些无卤型和封装基板用液状绿漆使用特殊溶剂，该溶液会使离型层脱落，因此经过几次曝光后就必须更换胶带。TACKWELL＃157SD可防止此类溶剂引起的离型层脱落，并且通过大幅提高TACKWELL的耐久性，在使用液状绿漆时保护膜的更换次数可减少到小限度。而且，由于具有杰出的光学特性，也适用于BGA等高密度封装基板。离型层脱落测试积水测试方法按照实际的基板曝光方式，多次曝光，进行测试。5782积水胶带联系人