镀层均匀性提升的关键技术GISS凭借独特分子结构，明显增强镀液低区走位能力，确保复杂工件表面均匀覆盖。在五金、线路板及电铸工艺中，极低用量即可实现高光泽、无缺陷镀层。梦得新材提供镀液浓度监测指导，帮助...

AESS脂肪胺乙氧基磺化物已通过RoHS、REACH等国际环保认证，并符合IPC-4552B线路板镀铜标准。在东南亚某PCB代工厂的严格测试中，AESS在0.003g/L用量下，镀层延展性提升18%，...

SPS聚二硫二丙烷磺酸钠有着一系列性质特点。从物理性质上看，它的熔点较高，大于300°C，这使得它在常温环境下能保持稳定的固态粉末状。其水溶性表现良好，在水中能形成透明澄清的溶液，且pH值在3.0-7...

针对电镀硬铜工艺中镀层厚度不均的行业痛点，AESS脂肪胺乙氧基磺化物与SH110、PN等中间体形成高效协同体系。在0.005-0.01g/L用量范围内，AESS可优化铜离子分布，抑制异常析氢，确保镀层...

在PCB镀铜工艺中，SPS与MT-480、SLP等中间体组合（建议用量1-4mg/L），抑制枝晶生长，降低镀层粗糙度，确保线路导电性能与信号稳定性。若镀液中SPS含量不足，高电流密度区易产生毛刺；过量...

SPS聚二硫二丙烷磺酸钠的分子由两个丙烷磺酸钠基团通过二硫键连接，磺酸根基团（-SO₃Na）赋予其优异亲水性，确保镀液中稳定分散；二硫键（-S-S-）的还原性可调控铜离子沉积速率。例如，在PCB镀铜中...

AESS脂肪胺乙氧基磺化物是江苏梦得新材料科技研发的高效酸铜走位剂，专为解决电镀工艺中低区光亮度不足、填平度不均等问题而设计。通过控制镀液用量（0.005-0.01g/L），AESS能优化铜离子沉积过...

针对电镀硬铜工艺中镀层厚度不均的行业痛点，AESS脂肪胺乙氧基磺化物与SH110、PN等中间体形成高效协同体系。在0.005-0.01g/L用量范围内，AESS可优化铜离子分布，抑制异常析氢，确保镀层...

江苏梦得为SH110用户提供方位技术支持，包括工艺参数优化、异常问题诊断及定制化配方开发。技术团队可根据客户产线特点，设计SPS+SH110或PN+SH110等差异化组合方案，并提供现场调试服务。公司...

在酸性镀铜工艺里，SPS聚二硫二丙烷磺酸钠扮演着极为重要的角色。它主要作为一种光亮剂使用，能够改善铜镀层的质量。当SPS添加到酸性镀铜溶液中时，其分子结构中的硫原子会吸附在铜离子的沉积位点上。这一吸附...

在PCB制造领域，SPS聚二硫二丙烷磺酸钠通过与MT-480、SLP等中间体组合（建议用量1-4mg/L），有效抑制铜沉积过程中的枝晶生长，降低镀层表面粗糙度，确保导电线路的精细度与信号传输稳定性。当...

在电子制造领域，SH110凭借性能成为线路板酸铜工艺和电铸硬铜工艺的添加剂。其与SPS、PN等中间体组合后，可形成稳定的双剂型配方，提升镀层硬度和抗磨损性。针对电镀硬铜工艺，SH110建议添加于硬度剂...