企业商机
蚀刻液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 产品名称
  • 钼铝钼蚀刻液
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类别
  • 无机酸
  • 产品性状
  • 液态
蚀刻液企业商机

    下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。图1是实施例一中公开的储存罐与拖车的安装结构图;图2是实施例二中公开的储存罐与拖车的安装结构图;图3是实施例三中公开的储存罐与拖车的安装结构图;图4是实施例四中公开的储存罐与拖车的安装结构图。具体实施方式下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例一铝蚀刻液生产设备,包括混合罐、过滤器和数个小型的储存罐,混合罐通过液管与过滤器连接,过滤器的出液口处安装有气动升降式出液管,每个储存罐的进液口和出液口中安装有一只单向液动阀,过滤器的出液管自动下行插入储存罐的进液口中,将过滤后的铝蚀刻液注入储存罐内暂存。请参阅图1,储存罐10固定在一辆液压升降式拖车20的顶部,在过滤器的下方设置地磅30,载有空储存罐的拖车置于地磅上方,过滤器的出液管自动下行插入储存罐的进液口中,当地磅所测得的重量达到系统预设重量时,过滤器的出液管自动上行离开储存罐。将装满的储存罐从铝蚀刻液生产车间移动至自动灌装车间中,将灌装头的快速接头插入储存罐的出液口中便可将储存罐内的铝蚀刻液分装。拖车的底部具有滚轮21,即使滚轮带有刹车。剥离液有水性和溶剂型等不同的区分。四川市面上哪家蚀刻液推荐货源

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铜蚀刻液近期成为重要的微电子化学品产品,广泛应用于平板显示、LED制造及半导体制造领域。随着新技术的不断进步,对该蚀刻液也有了更高的要求。并且之前市场上的铜蚀刻液成分普遍存在含氟、硝酸或高浓度双氧水的情况。在此基础上我司自主进行了无氟,无硝酸,低双氧水浓度铜蚀刻液的研发,并可兼容于不同CuMo镀膜厚度之工艺。产品特点:1.6%双氧水浓度的铜蚀刻液lifetime可至7000ppm。2.末期铜蚀刻液工艺温度(32)下可稳定72H,常温可稳定120H;无暴沸现象。3.铜蚀刻液CD-Loss均一性良好,taper符合制程要求。4.铜蚀刻液可兼容MoCu结构不同膜厚度的机种。四川市面上哪家蚀刻液推荐货源什么制程中需要使用蚀刻液。

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    负的值表示厚度减小。上述蚀刻液组合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*选择性蚀刻上述氮化物膜为特征,上述氧化物膜推荐包含sio2,上述氮化物膜推荐包含sin。上述蚀刻液组合物用于3dnand闪存制造工序,能够使上述氮化物膜去除工序中发生的副反应氧化物的残留和氧化物膜损伤不良问题**少化。本发明的蚀刻液组合物包含如上选择的添加剂,在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*选择性蚀刻氮化物膜时,能够使因副反应氧化物的残留时间变长而氮化物膜未被完全去除的不良(参照图2)以及氮化物膜虽被完全去除但也造成氧化物膜损伤(damage)的工序不良(参照图3)的发生**少化。因副反应氧化物的残留时间变长而氮化物膜未被完全去除的不良在添加剂的防蚀能力强于适宜水平时发生,氧化物膜不良在添加剂的防蚀能力弱于适宜水平时发生。以下,对于本发明的蚀刻液组合物中所包含的磷酸、作为添加剂的硅烷(silane)系偶联剂以及进行更详细的说明。(a)磷酸本发明的蚀刻液组合物中所包含的上述磷酸(phosphoricacid)作为主氧化剂可以在使氮化物膜氧化时使用。相对于组合物总重量,上述磷酸的含量为50~95重量%,推荐为80~90重量%。在上述磷酸的含量处于上述含量范围内的情况下。

    注入量精确调配装置通过嵌入引流口2接入盐酸装罐7进行原料注入,工作人员通过负压引流器21将盐酸硝酸引向注入量控制容器18内,通过观察注入量控制容器18内的注入量观察刻度线19对注入量进行精确控制,当到达设定的注入量时将限流销20插入进行限流即可,很好的对注入量进行精确控制,提高了该装置的制备纯度。工作原理:首先,通过设置热水流入漏斗9,工作人员可沿着热水流入漏斗9将热水缓缓倒入盐酸内,从而很好的减小了发生反应的剧烈程度,很好的起到了保护作用。然后,通过设置加固支架10,加固支架10为连接在两侧底座支柱的三角结构,利用三角结构稳定原理对装置底座5起到了很好的加固效果。接着,通过设置防烫隔膜11,防烫隔膜11为很好的隔热塑胶材料,能够很好的防止工作人员被烫伤,很好的体现了该装置的防烫性。紧接着,通过设置高效搅拌装置2,该装置通过运转电机组13驱动旋转摇匀转盘12,使旋转摇匀转盘12带动高效搅拌装置2进行旋转摇匀,同时设置的震荡弹簧件14可通过驱动对高效搅拌装置2进行震荡摇匀,高效搅拌装置2内部的蚀刻液通过内置的致密防腐杆16,致密防腐杆16内部的搅动孔17能够使蚀刻液不断细化均匀化,从而很好的防止了蚀刻液的腐蚀,且成本低廉。专业蚀刻液,为您的精密加工提供有力支持。

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    制备装置主体1的内部中间部位活动连接有高效搅拌装置2,制备装置主体1的一侧中间部位嵌入连接有翻折观察板4,制备装置主体1的底端固定连接有装置底座5,装置底座5的内部底部固定连接有成品罐6,装置底座5的顶端一侧固定连接有盐酸装罐7,装置底座5的顶端另一侧固定连接有硝酸装罐8,高效搅拌装置2的内部顶部中间部位活动连接有旋转摇匀转盘12,高效搅拌装置2的内部顶部两侧活动连接有震荡弹簧件14,震荡弹簧件14的顶端固定连接有运转电机组13,运转电机组13的顶端电性连接有控制面板15,高效搅拌装置2的内部中间部位固定连接有致密防腐杆16,致密防腐杆16的内部内侧贯穿连接有搅动孔17,盐酸装罐7的内部一侧嵌入连接有嵌入引流口22,嵌入引流口22的一端固定连接有负压引流器21,负压引流器21的一端固定连接有注入量控制容器18,注入量控制容器18的内部内侧固定连接有注入量观察刻度线19,注入量控制容器18的一侧嵌入连接有限流销20。推荐的,翻折观察板4的内部顶部活动连接有观察窗翻折滚轮401,观察窗翻折滚轮401的底端活动连接有内嵌观察窗402,该装置在进行制备时,具有一定的危险性,工作人员无法直接对其内部的运行状况进行很好的实时查看,通过设置内嵌观察窗402。剥离液可以有正胶和负胶以及正负胶不同的分类。四川市面上哪家蚀刻液推荐货源

ITO蚀刻液的配方是什么?四川市面上哪家蚀刻液推荐货源

    更推荐满足。参照图4,在添加剂(硅烷系偶联剂)的aeff处于,能够使因副反应氧化物的残留时间变长而氮化物膜未被完全去除的不良**少化,在硅烷系偶联剂的aeff处于,能够使氧化物膜损伤不良**少。因此,在利用上述范围所重叠范围(规格(spec)满足区间)即aeff为2以上,能够使因副反应氧化物的残留时间变长而氮化物膜未被完全去除的不良以及氧化物膜损伤不良**少化。在上述添加剂的aeff值处于上述范围内的情况下,上述添加剂可以具有适宜水平的防蚀能力,由此,即使没有消耗费用和时间的实际的实验过程,也能够选择具有目标防蚀能力的硅烷系偶联剂等添加剂。本发明的上述硅烷系偶联剂等添加剂推荐按照保护对象膜(氧化物膜)的蚀刻程度(etchingamount,e/a)满足以上以下的范围的浓度来添加。例如,对于包含氧化物膜(例如,sio2)和上述氧化物膜上的氮化物膜(例如,sin)的膜在160℃以添加剂浓度1000ppm基准处理10,000秒的情况下,推荐按照保护对象膜的蚀刻程度(etchingamount,e/a)满足以上以下的范围的浓度添加。本发明的添加剂的防蚀能力可以通过上述添加剂的aeff值与浓度之积来计算,由蚀刻程度(etchingamount,e/a)来表示。蚀刻程度的正的值表示蚀刻工序后厚度增加。四川市面上哪家蚀刻液推荐货源

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