嘉兴金相抛光高分子磨抛耗材

磨抛耗材，二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。普遍用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。此外也可应用在如不锈钢、铝合金、铜合金等金属材料的精细抛光。尤其是在制备包含陶瓷的金相试样时更是不可或缺。二氧化硅胶体粒子呈球状，粒度均匀，分散性好，不会对抛光面产生物理损伤，抛光速率快，可有效去除划痕，降低抛光后的表面粗糙度。使用二氧化硅抛光后的表面洁净无污、颜色鲜亮分明。 磨抛耗材，氧化铝悬浮研磨抛光液，磨料在分散剂中均匀、游离分布，适用于精密磨抛。嘉兴金相抛光高分子磨抛耗材

磨抛耗材，氧化铝抛光液适用范围：用于树脂镜片自由曲面的抛光、传统车房抛光、红外及光学软材400-500磨耗度以及蓝宝石窗口片，衬底片的抛光等产品特点：顆粒分散均匀，不团聚，悬浮性好；颗粒分布适中，抛光精度高；抛光速度快，表面质量高；环保性，低气味，低排放,无有机物挥发主要技术指标：状态乳白色悬浮液，静止久存放表层略有清液。应用领域：树脂镜片自由曲面的抛光，树脂镜片传统车房抛光，红外及光学软材400-500磨耗度，蓝宝石窗口片、衬底片的抛光。嘉兴金相抛光高分子磨抛耗材磨抛材料，氧化铈抛光粉用于玻璃和含硅材料的抛光。

磨抛耗材，金刚石悬浮研磨抛光液和金相抛光布如何配合使用，按照抛光方式可以分为机械抛光、电解抛光、化学抛光和综合抛光等几种。抛光当前应用普遍的是机械抛光，它是在金相试样抛光机上进行。细磨后的试样冲洗后，将磨面置于抛光机圆盘上抛光。按抛光微粉（磨料）粒度，分为粗抛与精抛。粗抛时所用抛光微粉颗粒直径为1~6μm，精抛用微粉颗粒直径在0.3~1μm之间。对较软的有色金属必须进行粗抛与精抛，但对钢铁材料只需粗抛即可。

磨抛耗材，电解抛光机械抛光有机械力的作用，会不可避免地产生金属变形层，使金属扰乱层加厚，出现伪组织。而电解抛光是利用电解方法，以试样表面作为阳极，逐渐使凹凸不平的磨面溶解成光滑平整的表面。因无机械力作用，故无变形层，亦无金属扰乱层，能显示材料的真实组织，并兼有浸蚀作用。适用于硬度较低的单项合金、容易产生塑性变形而引起加工硬化的金属材料，如奥氏体不锈钢、高锰钢、有色金属和易剥落硬质点的合金等试样抛光。磨抛耗材，金相抛光润滑冷却液，对样品产生清洗和防锈作用。

磨抛耗材，金相研磨方案，首先，拿到样品后，要用肉眼先观察样品表面的平整度，还可以用指甲按压毛刺、观察样品光泽度、观察化锈蚀痕迹等，粗略判断样品的类型和硬度，以此来确定一道研磨工序（起）选用的砂纸标号。如果样品表面较粗糙，并有明显的切割刀痕，则应当选择粗粒度径标号P80的金相砂纸，从这个标号开始选择金相砂纸。如果样品表面看起来比较平整，则可以直接从P240号金相砂纸开始选择，这样既可以节省砂纸，又能提高效率。磨抛材料，单晶金刚石悬浮液适用于超硬材料、硬质合金等硬质材料的研磨抛光。嘉兴金相抛光高分子磨抛耗材

磨抛耗材，金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成。嘉兴金相抛光高分子磨抛耗材

磨抛耗材，铸铁及非金属夹杂物试样的抛光铸铁中的石墨及金属中的非金属夹杂物，在抛制中极易拖尾、扩大和剥落，因此多采用手工细磨，磨制时应加肥皂作润滑剂；亦可用蜡盘代替手工细磨，但必须选用短纤维抛光布，如尼龙，涤纶布，丝绸等。抛光时应不断转动试样，以防单向拖尾，还应尽量缩短磨抛时间。对铸铁试样，因表面易产生麻点、斑痕和氧化，可在抛光盘上加入微量铬酸酐，可加入防氧化溶液，并用防氧化溶液清洗试样。防氧化溶液配方如下：亚硝酸钠/0.010~0.015kg，苏打灰（200℃焙烧的Na2CO3）/0.003kg，蒸馏水/1000ml。嘉兴金相抛光高分子磨抛耗材