昆山单盘手动金相磨抛机公司

金相磨抛机（全自动）日常维护：用湿布清洁所有可接触到的表面；经常检查碗状衬垫；如已积攒了很多磨屑，则清洁或更换；清理转换盘上的磨料及残渣避免腐蚀转换盘系统；防粘盘每次使用完成后应取下晾干。每周维护：用湿软布和普通家用清洁剂清洁喷漆表面。（不要使用干布擦拭，表面会产生划痕，油脂可以用乙醇或异丙醇去除。不要用苯或类似的溶剂。）定期清理排水管道保持排水畅通。定期清理槽里的污物，不能使用坚硬物体，避免损坏水槽。清理水槽时应注意不能将水及污物罐如槽中心的孔内，会损坏转动装置。按下放泄阀释放以使水/油过滤器清空。用湿软布和普通家用防静电清洁剂清洁触摸屏。 金相磨抛机自带冷水装置。昆山单盘手动金相磨抛机公司

通常由机座、底盘、动力磨抛头、控制单元及自动加液单元（可选）等部分组成，磨抛夹具可同时夹持多个试样，金相磨抛机的工作参数包括加载力方式和力值、底盘及动力头转向及转速、磨抛时间、冷却水和自动添加抛光液等设定等均通过控制单元输入，并可保存为程序供后续调用。整个过程中，工作人员只需做固定或放置、取出、清洁试样，更换砂纸、磨盘或抛光布等工作，磨抛操作均由设备按设定程序自行完成，明显提升制样效率、改善制备重现性、降低操作者工作强度，试样的放置及取出、清洗、烘干、磨盘/砂纸/抛光布的更换仍需人工进行。昆山单盘手动金相磨抛机公司金相磨抛机外壳采用新型环保工程塑料材料一体成型。

金相磨抛机：一般把单相合金或纯金属的化学浸蚀主要看作是化学溶解过程。浸蚀剂首先把磨面表层很薄的变形层溶解掉，接着就对晶界起化学溶解作用。这是因为晶界上原子排列得特别紊乱，其自由能也较高，所以晶界处较容易受浸蚀而呈沟凹，见图(1-15)(b)。这时显微镜下就可看到固溶体或纯金属的多面体晶粒。若继续浸蚀则会对晶粒产生溶解作用。金属原子的溶解大都是沿原子排列密的面进行的。由于金相试样一般都是多晶体，各晶粒的取向不会一致，因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的，所以每一颗晶粒溶解的结果不一样，都把按原子排列密的面露在表面，也即浸蚀后每个晶粒的面与原磨面各倾了一定的角度。。在垂直照明下，各晶粒的反射光方向不一致，就显示出亮度不一致的晶粒。

金相磨抛机常配用耗材：金相砂纸：240、600、1000、1500#(其他规格400、2000#等）适用于常规金属类样件的研磨。金刚石磨盘：240、600、1000、1500#(其他规格400、2000#等）适用于超硬材料样件的研磨。金刚石砂纸：粒度：45-0.3um(适合超硬材料的精密研磨及粗抛，如陶瓷、晶体等材料）。抛光布料：呢料、丝绒、羊毛等（对特殊材料也需要采用粗抛、精抛等多道抛光工艺）。金刚石抛光剂：粒度：40-0.5um（抛光辅料，适合各类材料的抛光）。金刚石悬浮液：粒度：40-0.5um（比较常用的抛光辅料，更适合自动磨抛机使用）。氧化铝抛光粉：粒度：30-0.5um （适合碳钢类样件的抛光）。磁性磨盘：更便于更换砂纸及抛光布料。 金相磨抛机双工位单独操作，增加使用高效性和灵活性。

金相磨抛机在金相制样中，如果初次研磨不得当，那么很容易使样品表面出现划痕。那我们又如何防止制样过程中出现划痕呢，划痕即是样品表面上的线性凹槽，是由研磨粒子造成的。应对措施：确定在粗磨后，试样座上所有样品的表面都均匀地布满同样的磨痕花样；必要时重新进行粗磨；每一道步聚后均应仔细清洁样品和试样座，以去掉前一道工序中的大研磨粒子对磨/抛用具的干扰；如果在现行的抛光工序后仍有前面工序留下的磨痕，请先增加25~50%的制样时间。金相磨抛机表面光滑美观、免喷漆，表面划痕修复简单。昆山单盘手动金相磨抛机公司

金相磨抛机（单盘/双盘）三档定速：300、500、800r/min，可自定义。昆山单盘手动金相磨抛机公司

金相磨抛机：机械磨光法 随着技术生产的发展，费时的手工细磨操作正在被便捷的机械细磨逐步代替。机械细磨的主要优点是效率高、同时由于在磨光过程中有水不断冷却、润滑热量及磨粒不断被带走，因此不易产生变形层，金相试样的质量容易控制。号机械细磨的主要设备是预磨机。预磨机主要由一个电动机带动一个或两个转盘及冷却部分组成，电动机的转速为600r/min。冷却水直接可接用自来水，流量可调。机械细磨要用水砂纸，其规格分档情况见表1-4机械粗磨时，可选用粒度号为50～180的水砂纸。昆山单盘手动金相磨抛机公司