长沙手自一体金相磨抛机厂家批发

金相磨抛机：在金相实验室，金相试样的制备过程中，试样的预磨、抛光研磨是多道必不可少的程序，本机的集污盘和罩采用ABS材料整体制作，是具有外形新颖美观的产品。本机是采用PLC控制的金相试样磨抛机，磨盘100-1000无级调速，触摸屏显示并控制磨盘转速，电机为直流无刷电机，电机无需更换电刷，使用时间长，具有磁性盘设计，全系列支持快速换盘系统，使用弹性佳，搭配自动研磨装置，能代替手工进行磨抛的各道工序，可定时，设定磨头转速，可提高试样的磨抛质量和制作效率，是比较理想的金相制样设备。本机可适应各种材料的试样制备。该机的抛盘直径较大。抛盘的转速操作，噪音低，操作方便，外形美观，使用安全，是金相试样设备。金相磨抛机外壳采用ABS外壳，在外观上更加美观大方，并提高了防腐、防锈性能且易清洁。长沙手自一体金相磨抛机厂家批发

金相磨抛机：电子金相试样磨抛机与电子原子照明，扫描目标，通过镜头的聚焦。电子金相试样磨抛机利用电子束,工具金相试样磨抛机，通过电磁线圈集中,荧光金相试样磨抛机。在电子金相试样磨抛机下可以达到相当高的放大倍率；光学金相试样磨抛机（光）的对象而传统的金相试样磨抛机使用可见光。可见光由于其较小的波长收到限制。使用了一系列的镜片的屈光性质，即一个标准的实验室金相试样磨抛机观看的图像放大,偏光金相试样磨抛机。电子金相试样磨抛机与电子原子照明，扫描目标，通过镜头的聚焦。电子金相试样磨抛机利用电子束,工具金相试样磨抛机，通过电磁线圈集中,荧光金相试样磨抛机。在电子金相试样磨抛机下可以达到相当高的放大倍率；光学金相试样磨抛机（光）的对象而传统的金相试样磨抛机使用可见光。可见光由于其较小的波长收到限制。使用了一系列的镜片的屈光性质，即一个标准的实验室金相试样磨抛机观看的图像放大,偏光金相试样磨抛机。长沙手自一体金相磨抛机厂家批发金相磨抛机（单盘/双盘）三档定速：300、500、800r/min，可自定义。

金相磨抛机金相制样：基本概念：a.金属学：研究成分、组织结构及其变化，以及加工和热处理工艺等对金属、合金性能的影响和他们之间相互关系的学科。b.金相检验：应用金相学方法检查金属材料的宏观和显微组织的工作。c.金相学：狭义的金属学，也就是研究合金相图，用肉眼观察，在放大镜和显微镜的帮助下，研究金属和合金的组织和相变的学科。d.相：所谓“相”就是合金中具有同一化学成分、同一结构和同一原子聚集状态的均匀部分。不同相之间有明显的界面分开。合金的性能一般都是有组成合金的各相本身的结构性能和各相的组合情况决定的。合金中的相结构大致可分为固溶体和化合物两大基本类型。e.组织：泛指用金相观察方法看到的，由形态，尺寸不同、分布方式不同的一种或多种相构成的总体，以及各种材料缺陷和损伤。

PC-1000金相自动磨抛机(单盘)适用于岩相、矿物、陶瓷、玻璃、有色金属及其他硅酸盐等材料的粗磨、油磨、干磨、湿磨等研磨抛光， 本机采用PLC控制的金相试样磨抛机，外形美观、性能稳定、操作方便，实现了试样磨抛的自动化，是非常理想的金相制样设备。产品特点：7寸触摸屏操作控制。压力可通过触摸屏设定，精确力度控制。采用西门子变频器和日本SMC气动元件。通过编程实现连续制样，每个工序完成自动停机，方便更换抛光组织物，同时可以暂停查看制样效果，每部工序计时，能精确的制样和节省制样时间。一次可制样1-6个。自动锁紧功能LED灯照明。锥度磨盘系统，更换清理更容易。大口径的排水管道，不容易堵塞。水流量可调。金相磨抛机粗磨、细磨、干磨、湿磨及抛光等各道工序。

金相磨抛机：机械磨光法 随着技术生产的发展，费时的手工细磨操作正在被便捷的机械细磨逐步代替。机械细磨的主要优点是效率高、同时由于在磨光过程中有水不断冷却、润滑热量及磨粒不断被带走，因此不易产生变形层，金相试样的质量容易控制。号机械细磨的主要设备是预磨机。预磨机主要由一个电动机带动一个或两个转盘及冷却部分组成，电动机的转速为600r/min。冷却水直接可接用自来水，流量可调。机械细磨要用水砂纸，其规格分档情况见表1-4机械粗磨时，可选用粒度号为50～180的水砂纸。金相磨抛机（全自动）采用8寸触摸屏操作控制，直观的触摸屏界面，自动调压力。长沙手自一体金相磨抛机厂家批发

金相磨抛机（全自动）7寸触摸屏操作控制，可快速切换到预磨合抛光模式。长沙手自一体金相磨抛机厂家批发

金相磨抛机：一般把单相合金或纯金属的化学浸蚀主要看作是化学溶解过程。浸蚀剂首先把磨面表层很薄的变形层溶解掉，接着就对晶界起化学溶解作用。这是因为晶界上原子排列得特别紊乱，其自由能也较高，所以晶界处较容易受浸蚀而呈沟凹，见图(1-15)(b)。这时显微镜下就可看到固溶体或纯金属的多面体晶粒。若继续浸蚀则会对晶粒产生溶解作用。金属原子的溶解大都是沿原子排列密的面进行的。由于金相试样一般都是多晶体，各晶粒的取向不会一致，因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的，所以每一颗晶粒溶解的结果不一样，都把按原子排列密的面露在表面，也即浸蚀后每个晶粒的面与原磨面各倾了一定的角度。。在垂直照明下，各晶粒的反射光方向不一致，就显示出亮度不一致的晶粒。长沙手自一体金相磨抛机厂家批发